1、氣相法：包括物理氣相沉積法與化學氣相沉積法。氣相法適用于大面積器件的制備，同時可以避免旋涂法制備過程中有毒溶劑的使用。另一方面，由于控制前驅體的相對比例并非易事，氣相法對設備性能提出較高要求，高質量膜層的制備難度較高

2、旋涂法：旋涂法工藝相對簡單，為目前主流的鈣鈦礦吸光層制備方法。按照步驟的不同可進一步分為一步法、兩步法。其中，一步法指將鈣鈦礦的原料全部加入溶劑中，完全溶解后形成前驅溶液，前驅體溶液旋涂于基板上，溶劑在高速旋轉中揮發(fā)，溶質留在基板上結晶形成鈣鈦礦薄膜。

兩步法指，首先將PbX2溶于溶劑，旋涂在基底上成膜；然后將PbX2浸泡在溶液中或再次旋涂于基板上，與PbX2膜反應生成鈣鈦礦。